苏州博研精进光电有限公司

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研磨UV膜
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晶圆经紫外线照射后可大幅降低胶带的黏著力,以不施予晶圆压力的状况下进行胶带剥离作业。以特殊的PO膜为基膜,稳定性好,不会有小分子析出影响胶层性能,厚度控制精准(±3μm),有利于加工的精度控制

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