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研磨UV膜

晶圆经紫外线照射后可大幅降低胶带的黏著力，以不施予晶圆压力的状况下进行胶带剥离作业。以特殊的PO膜为基膜，稳定性好，不会有小分子析出影响胶层性能，厚度控制精准（±3μm），有利于加工的精度控制

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